無損成像將時(shi)間分辨研究帶入了(le)納米長(chang)度(du)尺度(du)
獨特的(de)地形表(biao)面成像能(neng)力(生物,半導體,量子)
一根(gen)(gen)或(huo)多(duo)根(gen)(gen)帶有(you)根(gen)(gen)據您的要求配置的終端站的光束線
自組裝材料(liao)中納米級有序衍(yan)射
用于評估機械和薄膜(mo)特(te)性(xing)(xing)的(de)結(jie)構泵探頭,以(yi)了解(jie)彈性(xing)(xing)響應,熱傳遞和聲子模式
磁(ci)性系統(tong)的(de)高(gao)分辨(bian)率,革命性的(de)測量對不(bu)同(tong)的(de)磁(ci)性層(ceng)高(gao)度敏感
KMLabs QM 量子顯微鏡的(de)(de)光子成(cheng)像(xiang)解決方案是(shi)一個完全集(ji)成(cheng)的(de)(de)商業化平臺,可實現EUV范圍內(nei)的(de)(de)超快(kuai)速光譜(pu)和納米級的(de)(de)高對比度(du),近地表到地下成(cheng)像(xiang)。它可以對成(cheng)分和結構進(jin)行基于實驗室的(de)(de)2D高對比度(du)成(cheng)像(xiang),研究(jiu)圖案化薄膜的(de)(de)機械性(xing)能(neng)(neng),深入了解材料性(xing)能(neng)(neng),以及自旋電(dian)子,ALD,2D,低密度(du)輕質,能(neng)(neng)源(yuan),空(kong)間和光伏材料的(de)(de)功能(neng)(neng)表征。
通過(guo)將(jiang)飛(fei)秒(miao)激光器(qi)的(de)(de)(de)(de)(de)時間(jian)敏感性(xing)與EUV顯微(wei)鏡和(he)衍(yan)射的(de)(de)(de)(de)(de)空間(jian)分辨率(lv)相結合,QM使(shi)得一系(xi)列技術(shu)可(ke)(ke)針對(dui)研究和(he)工(gong)業中的(de)(de)(de)(de)(de)重要挑戰進行調整。例如(ru),對(dui)于電(dian)池,鋰(li)邊緣附近的(de)(de)(de)(de)(de)EUV吸收提供了微(wei)觀和(he)光譜上豐(feng)富的(de)(de)(de)(de)(de)區域,以了解鋰(li)鍵合。對(dui)于半(ban)導體,QM提供了獨特的(de)(de)(de)(de)(de)對(dui)鍵合敏感的(de)(de)(de)(de)(de)掩埋和(he)表面納(na)米形貌的(de)(de)(de)(de)(de)關(guan)鍵細(xi)節。QM 量子顯微(wei)鏡完全可(ke)(ke)配置,包括激光源(EUV和(he)/或VUV),放(fang)大器(qi),根據用戶實驗量身定制的(de)(de)(de)(de)(de)光束線以及(ji)可(ke)(ke)有效(xiao)覆蓋納(na)米/量子材(cai)料的(de)(de)(de)(de)(de)顯微(wei)鏡/光譜學領域的(de)(de)(de)(de)(de)成像或其他分析工(gong)作站。
集成的高性能超快(kuai)EUV激光源
高分辨率干涉測量表(biao)面(mian)(mian)和亞表(biao)面(mian)(mian)成像(xiang)
x/y空間(jian)分辨(bian)率小于20 nm
具有(you)可(ke)配置終端站的(de)多用途束線(xian)
泵(beng)浦探頭(tou)(XUV泵(beng)浦/ IR探頭(tou))設(she)計(ji)
可擴展(zhan)至VUV(60-150 nm或8.3至20.7 eV)