35年來,我們一直在(zai)為光(guang)學涂層和(he)等離子體蝕刻行業(ye)開(kai)發現場監測(ce)和(he)控制儀器。Intellemetrics推出了一系列晶(jing)圓(yuan)視覺系統,專門(men)設計用于在(zai)負載(zai)鎖定(ding)真空蝕刻和(he)沉積(ji)室(shi)內觀察圖(tu)案化晶(jing)圓(yuan),以(yi)(yi)檢查是(shi)否已加載(zai)正確的(de)晶(jing)圓(yuan),并確認相對(dui)于掩(yan)模圖(tu)案的(de)對(dui)齊和(he)放置。圖(tu)像(xiang)分辨率取決于工(gong)作距(ju)離和(he)視場,但通常在(zai)5mm的(de)工(gong)作距(ju)離(適用于ICP蝕刻和(he)沉積(ji)室(shi))和(he)600mm視場下可以(yi)(yi)獲(huo)得7μm的(de)分辨率。