X 射(she)線(xian)單(dan)色儀(yi)(yi)是(shi)(shi)(shi)一種彎曲(qu)(qu)單(dan)晶元件(jian)，可(ke)(ke)有效聚(ju)(ju)(ju)焦(jiao) X 射(she)線(xian)輻射(she)。多年來，人們一直知道彎曲(qu)(qu)晶體(ti)的(de)(de)(de)特性，并將(jiang)其用(yong)于聚(ju)(ju)(ju)焦(jiao)和(he)(he)分(fen)(fen)析(xi)(xi) X 射(she)線(xian)。從根本(ben)上(shang)說(shuo)，這些光學(xue)元件(jian)是(shi)(shi)(shi)通(tong)過衍(yan)射(she)滿(man)足布拉格條件(jian)的(de)(de)(de) X 射(she)線(xian)來工作的(de)(de)(de)、 n λ = 2 d sin ( θB )，其中(zhong) n 是(shi)(shi)(shi)整數，λ 是(shi)(shi)(shi)波(bo)長，d 是(shi)(shi)(shi)相鄰晶格平面(mian)(mian)(mian)之間的(de)(de)(de)間距，θB 是(shi)(shi)(shi)以(yi)(yi)(yi)晶體(ti)平面(mian)(mian)(mian)為基準(zhun)的(de)(de)(de)布拉格角。通(tong)過在(zai)兩個方向上(shang)彎曲(qu)(qu)晶體(ti)平面(mian)(mian)(mian)以(yi)(yi)(yi)形(xing)(xing)成(cheng)(cheng)環形(xing)(xing)表(biao)面(mian)(mian)(mian)，可(ke)(ke)以(yi)(yi)(yi)在(zai)矢狀方向和(he)(he)切線(xian)方向上(shang)聚(ju)(ju)(ju)焦(jiao)，同時將(jiang)偏差降到很低。這些組件(jian)的(de)(de)(de)應用(yong)包括同步(bu)輻射(she)光束線(xian)的(de)(de)(de)高能量分(fen)(fen)辨率分(fen)(fen)析(xi)(xi)儀(yi)(yi)、分(fen)(fen)析(xi)(xi)化學(xue)儀(yi)(yi)器(qi)以(yi)(yi)(yi)及熱稠(chou)密(mi)等離子體(ti)的(de)(de)(de)光譜(pu)和(he)(he)成(cheng)(cheng)像--常見的(de)(de)(de)是(shi)(shi)(shi)用(yong)于核聚(ju)(ju)(ju)變(bian)研究設施的(de)(de)(de)目標診斷。

光學接觸式晶體確保(bao)無排氣(qi)

準確(que)拋光(guang)的曲率，斜率誤(wu)差(cha)小，晶體高度保形

晶(jing)體取(qu)向(xiang)驗證小于 2 弧秒(miao)

通(tong)過 X 射線地形圖識別和(he)剔除(chu)位錯、應(ying)變和(he)表面下損傷

真空兼容性

光斑尺寸小

高(gao)衍射和高(gao) X 射線(xian)通量

均勻的衍射強度曲線

產地：美國

衍射晶(jing)體：石英、硅、鍺、鈮酸鋰、lnAs、KAP，以(yi)及其他可(ke)定制的材(cai)料

表(biao)面形(xing)(xing)狀：環形(xing)(xing)、橢圓形(xing)(xing)、非球面、圓柱(zhu)形(xing)(xing)、圓錐形(xing)(xing)和球形(xing)(xing)

基底材料：N-BK7、耐熱玻璃和鋁

裝配(pei)尺寸：直徑可達 250 mm

裝(zhuang)配特征：缺口(kou)、凹(ao)槽和插入件便于集成(cheng)和校準

方向(xiang)精度(du)：絕對(dui)(dui)精度(du)達(da) ±10 弧秒；相對(dui)(dui)精度(du)達(da) ±2 弧秒

斜度誤(wu)差：在 633 納米波長下到每英寸λ/4

半徑公差：準確度在(zai) 1%以(yi)內，環(huan)形結構的(de) Rv/Rh 比率控制在(zai)小數點后幾位。

測量(liang)(liang)方法：X 射線成像計量(liang)(liang)法

厚度：通常小于 100 μm

是(shi)否可彎(wan)(wan)曲：可輕松(song)彎(wan)(wan)曲

同步輻(fu)射光束線(xian)的(de)高能量分(fen)辨率分(fen)析儀、分(fen)析化學儀器(qi)以及熱稠密等離子(zi)體(ti)的(de)光譜和(he)成像、用于核聚變研究設施的(de)目標診斷