電(dian)鍍(du)可(ke)增(zeng)強表(biao)面光潔(jie)度,電(dian)沉積是一種(zhong)長(chang)期存(cun)在(zai)且非常(chang)有價值(zhi)的(de)制(zhi)(zhi)造(zao)工(gong)藝,用于(yu)改(gai)變光學元件的(de)表(biao)面特性(xing)。電(dian)沉積也稱為(wei)電(dian)鍍(du),是一種(zhong)通過離子(zi)交(jiao)換(huan)將金(jin)(jin)(jin)屬(shu)(shu)部件與另一種(zhong)類型的(de)金(jin)(jin)(jin)屬(shu)(shu)重疊以(yi)改(gai)變其表(biao)面特性(xing)的(de)過程。Optiforms主要使用電(dian)鍍(du)來(lai)增(zeng)強光學元件的(de)反射率(lv)。Optiforms 的(de)電(dian)沉積金(jin)(jin)(jin)鍍(du)層(ceng)被(bei)證明優于(yu)行業(ye)標準鍍(du)層(ceng),在(zai)近紅外到遠紅外光譜中具有高度反射性(xing),具有不(bu)錯的(de)損(sun)傷閾值(zhi)性(xing)能。客戶可(ke)根(gen)據要求提供特定波長(chang)的(de)反射掃(sao)描(miao),定制(zhi)(zhi)功能特性(xing)以(yi)實現(xian)所(suo)需的(de)特性(xing)。
產地:美國
反射率:高
波長:400 nm 至 5000 nm
工作溫度:-50°C至100°C
沉積純(chun)度:Min 99.986%
硬(ying)度:C(200努氏)
厚度/等級:根據客戶要求
符合標(biao)準:ASTM B 488和Mil-G-45204 - I、II、III型(xing)純度
測試波長:1064 nm
PRF:10 Hz
激光系統
紅外傳感器系統