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該技術是532 nm CW 激光(guang)器，功(gong)率高達(da) 16 W。其特(te)點包括低(di)于 0.02% 的(de) RMS 噪(zao)聲和一個 CEP（載波(bo)包絡相位）反(fan)饋(kui)回路，可直接調制 使用 f 到 2f 干涉儀的(de)誤差(cha)信號的(de) 532 nm 輸出功(gong)率。廣泛集成在(zai)超(chao)快激光(guang)、半導體工業中(zhong)，僅舉幾例，fineness 系(xi)列非(fei)常(chang)緊湊，堅固(gu)，并且由(you)于其有效(xiao)率的(de)運作而需要少的(de)冷卻；在(zai)大多數 Ti:Sapphire 泵送應用中(zhong)，Ti:Sapphire 冷卻器的(de)廢水足以冷卻激光(guang)頭。
finesse激光(guang)器有(you)三個版本：標(biao)準型(xing)號的(de)(de)(de) RMS 噪(zao)聲(sheng)(sheng) <0.1 %； 對于(yu)噪(zao)聲(sheng)(sheng)關鍵應用，finesse pure 將 RMS 噪(zao)聲(sheng)(sheng)降低(di)到 <0.02%，對于(yu) CEP 和頻率(lv)梳(shu)應用，finesse pure CEP具有(you) CEPLoQ，無需(xu)聲(sheng)(sheng)光(guang)調(diao)制(zhi)器 (AOM) 通過(guo)調(diao)制(zhi) 532 nm 幅(fu)度(du)，覆蓋 dc-1 MHz 的(de)(de)(de)范圍(wei)，在高達 700 kHz 時具有(you)優于(yu) 90 度(du)的(de)(de)(de)相位特性。 從 CEP Ti:Sapphire 振蕩器中去除 AOM 具有(you)降低(di)系(xi)(xi)統復雜性的(de)(de)(de)額外優勢，從而使校準更簡單，對環境變化的(de)(de)(de)敏感度(du)更低(di)，減(jian)少外部效應引起的(de)(de)(de)噪(zao)聲(sheng)(sheng)并提高整個系(xi)(xi)統的(de)(de)(de)穩定性。
- CW 532 nm 激光
- pure技術產生 <0.02 % 的噪音
- 用于 CEP 穩定的 CEPLoQ反饋
- 互聯網連接優化
- 現場可更換二極管
