光束質量分析儀是測量激光光束的強度截面的裝置。光束質量分析儀(光束分析儀,模式分析儀)是一種診斷裝置,可以測量激光光束的整個光強截面,即不僅能測量光束半徑還可以測量得到細節形狀。
光(guang)束(shu)質量(liang)分析儀(yi)可以用(yong)于以下方(fang)面(mian):定(ding)性給出光(guang)束(shu)截面(mian)可以用(yong)于激(ji)光(guang)的(de)(de)對準,而測量(liang)光(guang)軸(zhou)不(bu)同位置處(chu)的(de)(de)光(guang)束(shu)半(ban)徑可以計算 M2因子(zi)或(huo)者光(guang)束(shu)參量(liang)乘積,定(ding)性表征(zheng)光(guang)束(shu)質量(liang)。
圖1:高斯光(guang)束(左圖)和(he)多(duo)模激光(guang)光(guang)束(右圖)的強度截面(mian)。后者(zhe)強度變化更加復雜(za)。
這種多(duo)模光束可由諧(xie)振腔(qiang)基模遠小(xiao)于增益介(jie)質中(zhong)泵浦區域的(de)激(ji)光器產(chan)生。
采用合適的(de)激光(guang)(guang)光(guang)(guang)束診斷方法控制(zhi)光(guang)(guang)束質量在很多激光(guang)(guang)器應用中都很重(zhong)要,例(li)如(ru),材料加工;例(li)如(ru),如(ru)果可以控制(zhi)光(guang)(guang)束質量,就可以得(de)到更(geng)加一致的(de)鉆孔質量。
相(xiang)機式光束質量分(fen)析儀
很多光束(shu)質(zhi)量分(fen)析儀采用一些數碼相機。在可見光和(he)近(jin)紅外光譜區域,CMOS和(he)CCD是(shi)(shi)較(jiao)常(chang)見的(de)。CMOS裝(zhuang)置更(geng)(geng)加便(bian)宜,但(dan)是(shi)(shi)CCD具有更(geng)(geng)好的(de)線(xian)性(xing)和(he)更(geng)(geng)低的(de)噪聲。CCD和(he)CMOS相機都能得(de)(de)到5μm量級(由像素大(da)小得(de)(de)到的(de))的(de)分(fen)辨率,因(yin)此(ci)光束(shu)半徑可以(yi)小到50 μm甚(shen)至更(geng)(geng)小。有源區面積的(de)尺寸為幾個毫米(mi),因(yin)此(ci)可以(yi)處理非(fei)常(chang)大(da)的(de)光束(shu)。
圖2:測量(liang)因子的激光(guang)光(guang)束質量(liang)分析儀(yi),CCD相機安裝(zhuang)在電動平移臺上。
不同(tong)的(de)波長區(qu)域(yu)需要采用(yong)不同(tong)的(de)傳感(gan)器類型。硅(gui)基傳感(gan)器非常適用(yong)于可見光(guang)(guang)和近(jin)紅外光(guang)(guang)譜區(qu)域(yu),波導(dao)可以達到(dao)1或(huo)1.1 μm,而(er)InGaAs探測(ce)器可以用(yong)于波長達到(dao)約1.7 μm。
對于更長的波(bo)(bo)長,例如(ru)表征CO2激光器的光束性能(neng),采用(yong)熱(re)電(dian)的或者微測輻射熱(re)計相(xiang)機(ji)就可(ke)以。這些相(xiang)機(ji)相(xiang)對比較昂貴。鑒于該激光器的輸出功率很高,因此(ci)其相(xiang)對較低(di)的響應(ying)度也不算是(shi)一個缺點。對于紫外線(xian)激光器,CCD和CMOS陣列可(ke)以與UV轉換板結(jie)合使(shi)用(yong),將輻射光轉化成更長的波(bo)(bo)長區域,而不會損(sun)傷相(xiang)機(ji)陣列。
相(xiang)機(ji)(ji)式傳感(gan)器的空間(jian)分辨率是一個非常重要(yao)(yao)的量。對于(yu)(yu)硅傳感(gan)器,像素(su)大(da)(da)小可以低至10 μm,因(yin)此可以測(ce)量50 μm量級的光束直徑(jing)。InGaAs探測(ce)器具有更(geng)大(da)(da)的像素(su)大(da)(da)小,寬度(du)為(wei)30 μm,然而熱電(dian)相(xiang)機(ji)(ji)陣列不能達到小于(yu)(yu)100 μm。很低的空間(jian)分辨率的結果就是光束尺(chi)寸(cun)需要(yao)(yao)比較大(da)(da),因(yin)此瑞利長度(du)較大(da)(da)。因(yin)此,若測(ce)量M2,需要(yao)(yao)更(geng)大(da)(da)的空間(jian)。像素(su)個數(shu)在實際中(zhong)也很重要(yao)(yao),數(shu)目大(da)(da)表示可以測(ce)量更(geng)大(da)(da)范(fan)圍內的光束直徑(jing)。
當用于窄線(xian)寬激光器時,相機(ji)式系統(tong)對時間相干引(yin)起(qi)的偽影非常(chang)敏感。為了抑(yi)制這(zhe)些偽影并消除器對測量(liang)數(shu)據的影響,需要非常(chang)仔細的光學設計(無(wu)窗口(kou),會引(yin)起(qi)寄生反射)。
很多相(xiang)機(ji)(ji)都對光(guang)(guang)(guang)(guang)非常敏感(gan),通常比(bi)需(xu)要(yao)(yao)(yao)的(de)還要(yao)(yao)(yao)敏感(gan)。因此(ci)光(guang)(guang)(guang)(guang)在進入(ru)相(xiang)機(ji)(ji)前需(xu)要(yao)(yao)(yao)先經過(guo)衰減。有時也需(xu)要(yao)(yao)(yao)采用(yong)一些成像光(guang)(guang)(guang)(guang)學(xue)(例(li)如,光(guang)(guang)(guang)(guang)束(shu)(shu)放大(da)器(qi)用(yong)來擴大(da)光(guang)(guang)(guang)(guang)束(shu)(shu)半徑的(de)范圍),這樣相(xiang)機(ji)(ji)記錄的(de)光(guang)(guang)(guang)(guang)束(shu)(shu)截面(mian)就等同于其它位置(相(xiang)平面(mian))的(de)光(guang)(guang)(guang)(guang)束(shu)(shu)截面(mian)。這可以很好的(de)屏蔽雜散光(guang)(guang)(guang)(guang)。但是,采用(yong)的(de)光(guang)(guang)(guang)(guang)學(xue)裝置不應該(gai)引入(ru)附加(jia)畸變效應。
記錄的光束(shu)(shu)截面可以顯示在計(ji)算機(ji)屏幕上,同時還包括測量的參數(shu),例如(ru)光束(shu)(shu)半徑(jing),光束(shu)(shu)位(wei)置,橢圓度(du)和統計(ji)信息,或(huo)者高斯擬合(he)。軟件可以選(xuan)擇不同方法確定光束(shu)(shu)半徑(jing),例如(ru)D4σ方法或(huo)者簡單的1/e2標準。
采(cai)用(yong)狹縫、刀(dao)口(kou)或針孔的掃描(miao)光束質量(liang)分(fen)析(xi)儀(yi)
有的光束分(fen)(fen)析儀可以采用(yong)一(yi)個或者(zhe)多個針孔、狹縫或者(zhe)刀口來(lai)掃描光束截面(mian)。任一(yi)情況下(xia),一(yi)些(xie)機械部分(fen)(fen)(固定在(zai)旋轉部分(fen)(fen)上)快速通過光束,而透射功率由一(yi)個光電探測(ce)器或一(yi)些(xie)電子裝置(zhi)記錄。采用(yong)計算機(PC或者(zhe)內置(zhi)微處理器)根據測(ce)量數據得(de)出光束截面(mian),然后(hou)顯示(shi)在(zai)屏幕(mu)上。例如,透射功率與刀口位(wei)置(zhi)的關系被分(fen)(fen)離開來(lai)得(de)到光束的一(yi)維強度截面(mian),然后(hou)移動的狹縫可以直接得(de)到強度截面(mian)。
圖3:掃(sao)描(miao)狹縫光(guang)束質(zhi)量分(fen)析儀。PC顯示屏(ping)顯示掃(sao)描(miao)了兩個方向并重建的(de)光(guang)束截(jie)面。
掃(sao)描系(xi)(xi)統的(de)空間(jian)(jian)分辨率可以高達幾微米,甚至接(jie)近于1微米(尤其是掃(sao)描針(zhen)孔或狹縫),適用(yong)于表征(zheng)小(xiao)直徑光(guang)束(shu)。掃(sao)描的(de)一個重要優點是光(guang)電探測(ce)器不需(xu)要具有很高的(de)空間(jian)(jian)分辨率,因此適用(yong)于不同波(bo)長區域的(de)探測(ce)器都能使用(yong)。另外(wai),與相(xiang)機式相(xiang)比,這種方法(fa)也(ye)可以得到(dao)更大的(de)動態范(fan)圍。可以承擔的(de)功率從(cong)mW到(dao)W量(liang)級。也(ye)很容易在進入(ru)探測(ce)器間(jian)(jian)進行光(guang)束(shu)衰減(jian),因為(wei)它需(xu)要的(de)光(guang)束(shu)質量(liang)比相(xiang)機式系(xi)(xi)統低很多。
掃(sao)描(miao)光(guang)束(shu)質(zhi)量分(fen)析儀特別適用(yong)于光(guang)束(shu)截(jie)面接近于高斯型光(guang)束(shu)的(de)情況,尤其是采(cai)用(yong)狹(xia)縫或者刀口(kou)掃(sao)描(miao)的(de)系統(tong),因為,記錄的(de)信號(hao)通常(chang)(chang)在一個(ge)空間方向,因此重(zhong)塑復(fu)雜的(de)光(guang)束(shu)形狀通常(chang)(chang)得到的(de)結果(guo)不是很理想。
有(you)些掃描光(guang)束(shu)質量分析儀(yi)可以用(yong)于(yu)(yu)脈(mo)沖激光(guang)光(guang)束(shu),例如來自于(yu)(yu)調Q激光(guang)器的光(guang)束(shu)。但是,它只(zhi)適用(yong)于(yu)(yu)足夠高的脈(mo)沖重復(fu)速(su)率(lv)的情形(xing);需要注意的是,min的重復(fu)速(su)率(lv)與光(guang)束(shu)直徑有(you)關。
需(xu)要考慮(lv)的一些因素
在(zai)選擇光譜質(zhi)量分析儀(yi)用于某(mou)一應用中時有很多要求:
光束半(ban)徑(jing)或(huo)直徑(jing)的范圍是多少?需(xu)要(yao)的準度是多少?需(xu)要(yao)采用哪種光束半(ban)徑(jing)的定義(yi)?
光束是(shi)否接近(jin)于高(gao)斯型?或者(zhe)是(shi)否具有復(fu)雜的形狀?
光(guang)功率(lv)的范(fan)圍(wei)是(shi)多少(通常(chang)與光(guang)束半徑有關(guan))?是(shi)否需要大動態范(fan)圍(wei)的器(qi)件,或(huo)者裝(zhuang)置工(gong)作(zuo)在很(hen)窄的光(guang)功率(lv)范(fan)圍(wei)能否符合要求?是(shi)否需要可調衰減器(qi)?
裝置是否需要連接到(dao)一個PC上,或者裝置需要具有內(nei)置的電子裝置來顯示結果?
需要(yao)(yao)什么樣的軟件?例如(ru),需要(yao)(yao)直(zhi)接顯示哪個光束(shu)參(can)數(shu)?是否(fou)需要(yao)(yao)在很大的光束(shu)半徑和功率范圍(wei)內測量光束(shu)參(can)數(shu)?是否(fou)需要(yao)(yao)數(shu)據(ju)記錄特性(xing)?
裝(zhuang)置是否需要處理隨時(shi)間變化(hua)功率的光束(shu),例(li)如來自于調(diao)Q激光器(qi)?
為了得到(dao)全部(bu)的光束質量特性:裝置是否需要自動記錄在不同位置處的光束截面和(he)計(ji)算 M2因子?
光束衰(shuai)減
大多數情況下,尤其(qi)是相(xiang)機(ji)式系統,光束在(zai)進(jin)入質(zhi)量(liang)分析儀之(zhi)前需要先進(jin)行衰(shuai)減。有些(xie)系統在(zai)傳播過(guo)程中(zhong)(zhong)采用光衰(shuai)減器(例如(ru),楔形中(zhong)(zhong)性(xing)密度濾波器);有時也利用高質(zhi)量(liang)玻璃片的弱反(fan)射。
盡管衰減是(shi)一(yi)個很重要(yao)的(de)任務,若采用不(bu)恰當的(de)方法(fa)就會產生(sheng)很多問題。例如:
有(you)些衰減器具有(you)不(bu)是很高的光學質(zhi)量,或者會由于表面的反射(she)引起干涉(she)效應(ying)因此破壞(huai)窄線寬光束的光束質(zhi)量。
吸收濾(lv)波器在高功率情況下會降低(di)光束質量,因為這(zhe)時存在熱學效應(ying)。
不建議采用高反(fan)(fan)射(she)(she)率的(de)電介質反(fan)(fan)射(she)(she)鏡用于光束質量的(de)測(ce)量,因為其(qi)參與透射(she)(she)率與反(fan)(fan)射(she)(she)鏡的(de)位置密(mi)切相(xiang)關。
光學表面的(de)近于布(bu)儒斯特角的(de)p偏(pian)振的(de)弱反射(she)光也是不需要(yao)的(de),因(yin)為這(zhe)種工作(zuo)條件下s偏(pian)振光具有很高的(de)反射(she)率,因(yin)此在激光增益介(jie)質中引起去極化現象(xiang)。
有些方法提供的衰(shuai)減是非(fei)常粗的不可調(diao)的,這種(zhong)探測器很難得到(dao)峰值功率(lv)。
裝置是否方便(bian)(bian)也(ye)是一個考慮(lv)因(yin)素(su)。例如(ru),如(ru)果可以(yi)采(cai)用電(dian)子學自動(dong)調節(jie)衰減(jian)因(yin)子是非常便(bian)(bian)利的(de)。
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