美國aBeam Technologies提(ti)(ti)供多種產品來改進半(ban)導體(ti)制(zhi)造(zao)和(he)(he)納(na)米(mi)制(zhi)造(zao)。我(wo)們的(de)產品用于模擬和(he)(he)優化納(na)米(mi)光刻、計量、掩(yan)模和(he)(he)缺(que)陷檢測。它(ta)們還用于半(ban)導體(ti)設備(bei)的(de)設計和(he)(he)優化。此外，該(gai)公司還銷(xiao)售電(dian)子束圖案發生器，并提(ti)(ti)供頂級納(na)米(mi)制(zhi)造(zao)。我(wo)們的(de)客戶是半(ban)導體(ti)工(gong)廠、設備(bei)制(zhi)造(zao)商以及研發實驗室和(he)(he)大(da)學。aBeam Technologies總部位(wei)于美國加利福尼(ni)亞州。半(ban)導體(ti)設備(bei)價格昂(ang)貴。有(you)機會(hui)提(ti)(ti)高工(gong)具質量、提(ti)(ti)高過程質量或(huo)為下一代延長其生命周期(qi)，使(shi)我(wo)們的(de)軟(ruan)件獲得了更大(da)的(de)回報。
aBeam Technologies的研(yan)究人(ren)員與勞倫(lun)斯伯(bo)克利(li)國家實(shi)驗室和阿貢(gong)國家實(shi)驗室合作，開發了一(yi)種(zhong)制造線(xian)寬降至1.5納米(mi)的測(ce)試圖案(an)的技術。設(she)計的圖案(an)包含數千條線(xian)條，線(xian)條寬度準確設(she)計；這些(xie)線(xian)以這樣一(yi)種(zhong)方(fang)式(shi)組(zu)合，即線(xian)寬的分(fen)布(bu)在任何位(wei)置看起來都(dou)是隨(sui)機(ji)的。這種(zhong)偽(wei)隨(sui)機(ji)測(ce)試模(mo)式(shi)允許在納米(mi)氣象系統的整個動態范圍內(nei)對其進行表征。
ABeam Technologies主要產品：
軟件
模式生成器
光學平臺
光束消隱器
光子集成器
主要型號：
TRAVIT EBL、DISPLACE、TEMPTATION、SCATT、TRAVIT Dry Etch、XeDraw、XPG-2、XENOS XeMove、XeSwitch
