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產品介紹
XENOS XeMove載物(wu)臺使用先進(jin)的(de)激光測量系統(tong)和超聲波(bo)壓電(dian)驅動技術，結合我(wo)們的(de)光刻系統(tong)（測量分辨率為10nm），可(ke)獲得優于100nm的(de)縫合和覆蓋精(jing)度。
XeMove：電子束光(guang)刻平臺
緊(jin)湊的設(she)計(ji)允許用作子(zi)階段或更換(huan)階段，只需要(yao)電(dian)氣(qi)室饋通。所有組件(jian)都(dou)是高(gao)真空兼(jian)容且(qie)完全非(fei)鐵(tie)磁的。緊(jin)湊的設(she)計(ji)包括(kuo)激(ji)光測(ce)量系統(tong)和壓(ya)電(dian)驅動部件(jian)。軸上(shang)測(ce)量將偏航(hang)誤差的影響(xiang)降(jiang)至更低(di)。行程(cheng)范圍從(cong)55毫米到120毫米不等(deng)。
性能特點
- 集成到現有系統中不需要復雜且昂貴的腔室修改。
- 測量系統不需要激光視口，載物臺電機不需要機械饋通，所有有源部件都放置在真空室內，并通過標準電氣饋通進行電子控制。
- 對于某些腔室設計（例如JEOL JSM-7xxx），載物臺可以通過負載鎖插入，并通過腔室內的特殊電ZIF觸點連接。
- 當平臺停止時，驅動電機斷電，位置被機械鎖定，從而將總功耗降至更低，防止加熱和相關漂移。
技術參數
產地：美國
類(lei)型(xing)：電子(zi)束(shu)光刻平臺(tai)
測量分辨率：10nm
行(xing)程范圍：55mm到(dao)120mm
縫合精度：優于(yu)100nm
覆蓋精度：優于100nm
激光視口：不需要
機械饋通：不需要
觸點連接：ZIF
兼容：高真空
組件：非鐵磁
部件驅動：壓電
產品參數
