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產品介紹
易于(yu)使用的(de)半自(zi)動化經(jing)濟(ji)型(xing)工(gong)具系列，適用于(yu)尺(chi)寸（max）為 8“ x 8” 的(de)基底，可在微米和(he)納米尺(chi)度上進(jin)行圖案復制。EITRE 工(gong)具具有多種壓印工(gong)藝能力和(he)廣泛的(de)配置可能性(xing)，因(yin)此(ci)用途特別廣泛。
性能特點
- EITRE 納米壓印光刻（NIL）工具提供了一種半自動、經濟實惠的光刻解決方案，可以在微米和納米范圍內復制圖案。
- EITRE 工具具有多種壓印工藝能力和廣泛的配置可能性，因此用途特別廣泛。
- 易于使用的半自動工具，界面友好。
- 嵌入式 SoftPress 技術可確保對整個壓印區域的殘余層厚度進行控制，從而實現準確的圖案轉移和簡單的下游工藝開發。
- 工具的靈活性允許使用多種壓印工藝，如熱壓印、熱NIL、UV NIL 和 Obducat 獨特的同步熱壓和 UV (STU) 工藝。
- EITRE 工具適用于固態照明、微型光學和光子元件和生命科學設備、片上實驗室、MEMS/NEMS 和半導體等應用領域的研究和開發。
- 全面積的壓印。
- 紫外線模塊可配置為 50-400 mW/cm2的基板級強度。
- 根據歐洲安全法規和 CE 標志設計。
技術參數
產地：瑞典
基底尺寸：≤ 78 mm Ø
壓印壓力（min）：6-8 bar（取決(jue)于 CA 的入(ru)口壓力）
壓印壓力（max）：70 bar
壓(ya)印溫度（min）：環(huan)境溫度
壓印溫度（max）：250°C（使用(yong)紫外模塊(kuai)時為 200°C）
壓印溫度(du)設置：精度(du)± 2 度(du)
無塵室適用性(xing)：Class 100
室溫：18-32°C
相(xiang)對濕度(du)：40 - 65%
電源：220-240 VAC，單相，接地，預(yu)熔絲(si)至 16A，50/60 Hz，3 kVA
壓縮空氣：6 - 8 bar，30 l / min
排氣流量：1000 - 2000 l / min
尺寸（長 x 寬(kuan) x 高）：80 x 60 x 180 厘米
重量：約250 千克
產品參數
