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產品介紹
易(yi)于(yu)使用的(de)半自動化經(jing)濟(ji)型工具系(xi)列，適用于(yu)尺寸（max）為(wei) 8“ x 8” 的(de)基底(di)，可在微(wei)米(mi)和納米(mi)尺度上(shang)進行圖案復制。EITRE 工具具有(you)多(duo)種(zhong)壓印工藝能力和廣泛(fan)的(de)配置可能性，因此用途特別(bie)廣泛(fan)。
性能特點
- EITRE 納米壓印光刻（NIL）工具提供了一種半自動、經濟實惠的光刻解決方案，可以在微米和納米范圍內復制圖案。
- EITRE 工具具有多種壓印工藝能力和廣泛的配置可能性，因此用途特別廣泛。
- 易于使用的半自動工具，界面友好。
- 嵌入式 SoftPress 技術可確保對整個壓印區域的殘余層厚度進行控制，從而實現準確的圖案轉移和簡單的下游工藝開發。
- 工具的靈活性允許使用多種壓印工藝，如熱壓印、熱NIL、UV NIL 和 Obducat 獨特的同步熱壓和 UV (STU) 工藝。
- EITRE 工具適用于固態照明、微型光學和光子元件和生命科學設備、片上實驗室、MEMS/NEMS 和半導體等應用領域的研究和開發。
- 全面積的壓印。
- 紫外線模塊可配置為 50-400 mW/cm2的基板級強度。
- 根據歐洲安全法規和 CE 標志設計。
技術參數
產地：瑞典
基底尺寸：≤ 78 mm Ø
壓(ya)(ya)印壓(ya)(ya)力(li)（min）：6-8 bar（取決于 CA 的入口壓(ya)(ya)力(li)）
壓(ya)印(yin)壓(ya)力(li)（max）：70 bar
壓印溫度(du)（min）：環境溫度(du)
壓(ya)印溫度（max）：250°C（使(shi)用紫外(wai)模塊時為 200°C）
壓印溫(wen)度設置：精度± 2 度
無塵(chen)室適(shi)用(yong)性：Class 100
室溫：18-32°C
相對濕(shi)度：40 - 65%
電(dian)源：220-240 VAC，單相，接地，預(yu)熔絲至 16A，50/60 Hz，3 kVA
壓縮空氣：6 - 8 bar，30 l / min
排(pai)氣流量：1000 - 2000 l / min
尺寸（長 x 寬 x 高）：80 x 60 x 180 厘米
重量：約(yue)250 千克
產品參數
